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常見的去離子純水機堵塞的原因分析

更新日期: 2022-06-27
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  在化學場所見得最多的水處理設備是什麽?答案當然是去離子超純水設備,去離子純水機應用預處理、反滲透技術、超純化處理以及後級處理等方法將水中的導電介質幾乎*去除,並且將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低的狀態,那麽常見去離子純水機堵塞的原因分析及注意事項有哪些?
 
  一、顆粒/膠體汙堵
 
  進水顆粒度>5um時會造成進水流道堵塞,引起模塊內部水分分部不均勻,從而導致模塊整體性能降低。如果EDI模塊的進水不是直接由RO產水端進入EDI模塊,而是通過RO產水箱經過過壓泵供水,建議在進入EDI模塊前段增設保安過濾器(<0.2um)。在組裝EDI設備時,所有的連接管道係統應衝洗幹淨以預防管道內的顆粒雜質進入模塊。
 
  二、無機物汙堵
 
  如果EDI進水含有較多的溶質且超出設計值或者回收率超過設計值時,將導致濃水室和陰極室的結構,生成鹽類物質析出沉澱,通常結垢的類型為鈣、鎂離子生成的碳酸鹽。
 
  即使這類物質的濃度很小,接觸時間很短,但隨著運行時間的累加,仍有發生結垢的可能,這種硬度結垢後很容易通過酸洗去除。
 
  使用低PH溶液在EDI係統內部循環衝洗,可以去除濃水室和陰極室的結垢。當進水中的鐵和錳含量高,或者高TDS的以外進入到EDI模塊時,也會使淡水室的離子交換樹脂或者濃水室形成無機物汙堵。也可以采用酸洗方式進行衝洗。
 
  三、有機物汙堵
 
  當進水有機物汙染TOC或TEA含量超過設計標準時,淡水室的離子交換樹脂和離子膜會發生有機汙堵。可以采用高PH值的藥水對淡水室及濃水室循環清洗可以將有機物分子清除離子交換樹脂對這種汙堵進行清洗。
 
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